1、輝光放電 通常把在電場作用下氣體被擊穿而導(dǎo)電的物理現(xiàn)象稱之為氣體放電。氣體放電有“輝光放電”和“弧光放電”兩種形式。輝光放電又分為“正常輝光放電”與“異常輝光放電”兩種,它們是磁控濺射鍍膜工藝過程中產(chǎn)生等離子體的基本環(huán)節(jié)。 輝光放電(或異常輝光放電)可以由直流或脈沖直流靶電源通過氣體放電形成,也可以用交流(矩形波雙極脈沖中頻電源、正弦波中頻與射頻)靶電源通過真空室內(nèi)的氣體放電產(chǎn)生。 氣體放電時,充什么樣的工作氣體、氣壓的高低、電流密度的大小、電場與磁場強(qiáng)度的分布與高低、電極的不同材質(zhì)、形狀和位置特性等多種因素都會影響到放電的過程和性質(zhì),也會影響到放電時輻射光的性質(zhì)和顏色。 (1)直流輝光放電 ①在陰-陽極間加上直流電壓時,腔體內(nèi)工作氣體中剩余的電子和離子在電場的作用下作定向運(yùn)動,于是電流從零開始增加; ②當(dāng)極間電壓足夠大時,所有的帶電離子都可以到達(dá)各自電極,這時電流達(dá)到某一最大值(即飽和值); ③繼續(xù)提高電壓,導(dǎo)致帶電離子的增加,放電電流隨之上升;當(dāng)電極間的放電電壓大于某一臨界值(點(diǎn)火起輝電壓)時,放電電流會突然迅速上升,陰-陽極間電壓陡降并維持在一個較低的穩(wěn)定值上。工作氣體被擊穿、電離,并產(chǎn)生等離子體和自持輝光放電,這就是“湯生放電”的基本過程,又稱為小電流正常輝光放電。 ④磁控靶的陰極接靶電源負(fù)極,陽極接靶電源正極,進(jìn)入正常濺射時,一定是在氣體放電伏-安特性曲線中的“異常輝光放電區(qū)段” 運(yùn)行。其特點(diǎn)是,隨著調(diào)節(jié)電源輸出的磁控靶工作電壓的增加,濺射電流也應(yīng)同步緩慢上升。 1、輝光放電 通常把在電場作用下氣體被擊穿而導(dǎo)電的物理現(xiàn)象稱之為氣體放電。氣體放電有“輝光放電”和“弧光放電”兩種形式。輝光放電又分為“正常輝光放電”與“異常輝光放電”兩種,它們是磁控濺射鍍膜工藝過程中產(chǎn)生等離子體的基本環(huán)節(jié)。 輝光放電(或異常輝光放電)可以由直流或脈沖直流靶電源通過氣體放電形成,也可以用交流(矩形波雙極脈沖中頻電源、正弦波中頻與射頻)靶電源通過真空室內(nèi)的氣體放電產(chǎn)生。 氣體放電時,充什么樣的工作氣體、氣壓的高低、電流密度的大小、電場與磁場強(qiáng)度的分布與高低、電極的不同材質(zhì)、形狀和位置特性等多種因素都會影響到放電的過程和性質(zhì),也會影響到放電時輻射光的性質(zhì)和顏色。 (1)直流輝光放電 ①在陰-陽極間加上直流電壓時,腔體內(nèi)工作氣體中剩余的電子和離子在電場的作用下作定向運(yùn)動,于是電流從零開始增加; ②當(dāng)極間電壓足夠大時,所有的帶電離子都可以到達(dá)各自電極,這時電流達(dá)到某一最大值(即飽和值); ③繼續(xù)提高電壓,導(dǎo)致帶電離子的增加,放電電流隨之上升;當(dāng)電極間的放電電壓大于某一臨界值(點(diǎn)火起輝電壓)時,放電電流會突然迅速上升,陰-陽極間電壓陡降并維持在一個較低的穩(wěn)定值上。工作氣體被擊穿、電離,并產(chǎn)生等離子體和自持輝光放電,這就是“湯生放電”的基本過程,又稱為小電流正常輝光放電。 ④磁控靶的陰極接靶電源負(fù)極,陽極接靶電源正極,進(jìn)入正常濺射時,一定是在氣體放電伏-安特性曲線中的“異常輝光放電區(qū)段” 運(yùn)行。其特點(diǎn)是,隨著調(diào)節(jié)電源輸出的磁控靶工作電壓的增加,濺射電流也應(yīng)同步緩慢上升。
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