1、輝光放電

通常把在電場作用下氣體被擊穿而導電的物理現(xiàn)象稱之為氣體放電。氣體放電有“輝光放電”和“弧光放電”兩種形式。輝光放電又分為“正常輝光放電”與“異常輝光放電”兩種，它們是磁控濺射鍍膜工藝過程中產生等離子體的基本環(huán)節(jié)。

輝光放電(或異常輝光放電)可以由直流或脈沖直流靶電源通過氣體放電形成,也可以用交流(矩形波雙極脈沖中頻電源、正弦波中頻與射頻)靶電源通過真空室內的氣體放電產生。

氣體放電時，充什么樣的工作氣體、氣壓的高低、電流密度的大小、電場與磁場強度的分布與高低、電極的不同材質、形狀和位置特性等多種因素都會影響到放電的過程和性質，也會影響到放電時輻射光的性質和顏色。

(1)直流輝光放電

①在陰-陽極間加上直流電壓時，腔體內工作氣體中剩余的電子和離子在電場的作用下作定向運動，于是電流從零開始增加;

②當極間電壓足夠大時，所有的帶電離子都可以到達各自電極，這時電流達到某一最大值(即飽和值);

③繼續(xù)提高電壓，導致帶電離子的增加，放電電流隨之上升;當電極間的放電電壓大于某一臨界值(點火起輝電壓)時，放電電流會突然迅速上升，陰-陽極間電壓陡降并維持在一個較低的穩(wěn)定值上。工作氣體被擊穿、電離，并產生等離子體和自持輝光放電，這就是“湯生放電”的基本過程，又稱為小電流正常輝光放電。

④磁控靶的陰極接靶電源負極，陽極接靶電源正極，進入正常濺射時，一定是在氣體放電伏-安特性曲線中的“異常輝光放電區(qū)段” 運行。其特點是，隨著調節(jié)電源輸出的磁控靶工作電壓的增加，濺射電流也應同步緩慢上升。

1、輝光放電

通常把在電場作用下氣體被擊穿而導電的物理現(xiàn)象稱之為氣體放電。氣體放電有“輝光放電”和“弧光放電”兩種形式。輝光放電又分為“正常輝光放電”與“異常輝光放電”兩種，它們是磁控濺射鍍膜工藝過程中產生等離子體的基本環(huán)節(jié)。

輝光放電(或異常輝光放電)可以由直流或脈沖直流靶電源通過氣體放電形成,也可以用交流(矩形波雙極脈沖中頻電源、正弦波中頻與射頻)靶電源通過真空室內的氣體放電產生。

氣體放電時，充什么樣的工作氣體、氣壓的高低、電流密度的大小、電場與磁場強度的分布與高低、電極的不同材質、形狀和位置特性等多種因素都會影響到放電的過程和性質，也會影響到放電時輻射光的性質和顏色。

(1)直流輝光放電

①在陰-陽極間加上直流電壓時，腔體內工作氣體中剩余的電子和離子在電場的作用下作定向運動，于是電流從零開始增加;

②當極間電壓足夠大時，所有的帶電離子都可以到達各自電極，這時電流達到某一最大值(即飽和值);

③繼續(xù)提高電壓，導致帶電離子的增加，放電電流隨之上升;當電極間的放電電壓大于某一臨界值(點火起輝電壓)時，放電電流會突然迅速上升，陰-陽極間電壓陡降并維持在一個較低的穩(wěn)定值上。工作氣體被擊穿、電離，并產生等離子體和自持輝光放電，這就是“湯生放電”的基本過程，又稱為小電流正常輝光放電。

④磁控靶的陰極接靶電源負極，陽極接靶電源正極，進入正常濺射時，一定是在氣體放電伏-安特性曲線中的“異常輝光放電區(qū)段” 運行。其特點是，隨著調節(jié)電源輸出的磁控靶工作電壓的增加，濺射電流也應同步緩慢上升。

*免責聲明：本文引用自半導體備工程師。文章內容系作者個人觀點，轉載僅為了傳達不同觀點交流與提升半導體行業(yè)認知，不代表對該觀點贊同或支持，如果有任何異議，歡迎聯(lián)系。